鍍膜儀是目前鍍膜行業(yè)應用廣泛的真空設備，隨著行業(yè)的發(fā)展，各種類型的鍍膜儀也在逐漸出現(xiàn)。但大部分人并不了解鍍膜儀的工作原理。鍍膜儀主要是由真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成。真空設備也分好多類型和型號，種類、用途不一樣，其型號也就不一樣，但它們的工作原理是相通和類似的。
鍍膜儀的基本技術要求說明：
1.設備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結構形式，應符合GB/T的規(guī)定。
2.在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規(guī)管，分別測量各部位的真空度。當發(fā)現(xiàn)電場對測量造成干擾時，應在測量口處安裝電場屏蔽裝置。
3.如果設備使用的主泵為擴散泵時，應在泵的進氣口一側裝設有油蒸捕集阱。
4.設備的鍍膜室應設有觀察窗，應設有擋板裝置。觀察窗應能觀察到沉積源的工作情況以及其他關鍵部位。
5.離子鍍沉積源的設計應盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。
6.合理布置加熱裝置，一般加熱器結構布局應使被鍍工件溫升均勻一致。
5.工件架應與真空室體絕緣，工件架的設計應使工件膜層均勻。
8.離子鍍膜儀一般應具有工件負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應具有抑制非正常放電裝置，維持工作穩(wěn)定。
9.主要環(huán)境條件：
①環(huán)境溫度：10-30℃；
②相對濕度：≤75%；
③冷卻水進水溫度：≤25℃；
④供電電源：380V三相50Hz或220V單相50Hz(由所用電器需要而定)；
⑤設備周圍環(huán)境整潔，空氣清潔，不應有引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵埃或氣體存在。
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