離子研磨的主要技術原理說明

　　離子研磨設備是一種用于材料科學領域的儀器，可用于SEM、EPMA和SAM的樣品制備，它可以制備軟的、硬的和復合材料的樣品，損傷、污染和變形可以控制得非常小。依靠離子束轟擊制備樣品剖面，觀察范圍大、清潔而且適用于幾乎所有材料。
 

　　離子研磨設備可一步制備出鏡面樣品。它幾乎可以適用于各種材料，包括難以拋光的軟材料，如銅、鋁、金、焊料和聚合物等；以及難以切割的材料，如陶瓷和玻璃等。配套的高級CCD顯微鏡，可以準確地把樣品定位在幾個微米大小的剖面位置上。制備過程中，自動控制樣品搖擺，以避免產生表面劃痕。由于離子束水平入射、氬離子不會滲入樣品表面。
 

　　由于機械加工導致的樣品表層邊緣遭到破壞且所積累的殘余應力無法得到釋放，終造成無法獲得樣品表層納米梯度強化層真實精準的原位力學性能。離子研磨系統可以無應力的去除樣品表面層，加工出光滑的鏡面。兼容平面和截面兩種加工方式，為相關檢測的樣品制備提供了為有效的解決方案。
 

　　離子研磨技術是利用通過電場加速過的離子轟擊樣品表面，在樣品表面產生濺射效應，由此制備尺度為毫米級別的平滑表面的研磨方法。氬氣屬于惰性氣體，基本不會和樣品發生化學反應，因此通常我們采用Ar作為離子源轟擊樣品。